鏡面研磨は、ピッチ盤ができてからそのピッチ盤が利用できる期間はそんなに長くありませんので、できるだけ、毎日研磨に取り組むのが良いです。
というわけで、今日もお休みを利用して研磨に取り組みました。
まず、ピッチ盤は水に浸して保管していますが、磨き始める前に、上のように鏡と型合わせをしました。気温も比較的高いので、１０ｋｇで５分も合わせれば十分かなと思います。
セリウムを溶いた液を足して磨き開始。少し磨いては、干渉計で鏡の誤差を計測、その内容を見て磨き方を少し変えて少しまた磨き、また干渉計で検査、というのを繰り返しました。
そんなに連続的にやっているわけではなく、磨いている時間はどんなに長くても５分、大体１分程度で、とにかくまめに様子を見るようにしました。
途中からは、検査結果で山になっているところを減らすつもりで、オーバーハングを外周から５ｍｍ~25mm程度の範囲にかけながら磨いたところ、鏡面の誤差が減少していきました。
今日の磨き始めが赤い線の鏡面誤差でPVで0.7波長程度あったのが、少しマシ（黒線）になりました（0.5波長ぐらい？）。個人的にはこれでもかなりの進歩。と思っています。
表面の凸凹の解析結果はこんな感じで、中心に穴がある感じ。
明日も時間が取れたら、鏡面の改善に取り組みたいなーと思っているところ。
(8/14 補記）
波面誤差(wavefront error）のグラフの極性がよくわかりませんでしたので、openfringeのZernike（ゼルニケ）多項式 近似の誤差項を全部0にしたもの（つまり完全な球面鏡）の波面誤差を計算してみました。
すると、上のようになりました。この波面誤差は、放物線鏡ですと誤差０になりますので、球面鏡の誤差が上のようになるということは、プラスに誤差が出ているところが「山」、マイナスに誤差が出ているところが「谷」ということになります。球面鏡の場合でも誤差はPeak-to-Valleyで1/4波長程度ということなので、私の鏡（ひどい双曲面）はまだまだ、ということになります。